[new] Excimer Laser Micro Machining
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작성일 22-10-14 19:27
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현재 200 W급의 것이 시판 되고 있따 미세 구멍뚫기 가공이 주요한 용도이지만, 최근에는 아몰퍼스 실리콘 박막을 폴리 실리콘화하여 전자 이동도를 높이는 레이저 어닐 공定義(정의) 응용이 주목되고 있따 불활성 기체-할라이드 엑시머 레이저 가운데서는 파장이 길기 때문에, 석영 광섬유를 이용한 레이저 광 전송이 가능하고, 레이저 메스 등 레이저광의 자유로운 조작이 요구되는 의료 분야에의 응용도 기대되고 있따
XeCl 레이저(엑시머 레이저) 장치시판의 엑시머 레이저 장치 (LPX 200)이다. 동형의 장치로 XeCl 레이저 외에 F2 레이저(평균(average) 출력 0.8 W), ArF 레이저 평균(average) 출력 30~40 W, KrF 레이저(평균(average) 출력 100~400 W), XeF 레이저(평균(average) 출력 30 W)가 있따(資料 제공 : 람다-피직스 저팬(주)) XeCl 레이저에 의한 미…(drop)
엑시머레이저의 가공기술, 종류, 응용방법 등 엑시머레이저에 대한 전반적인 내용을 기술한 리포트입니다. 엑시머레이저및가공기술 , Excimer Laser Micro Machining공학기술레포트 , Excimer Laser Micro Machining
레포트/공학기술
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Excimer Laser Micro Machining
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다. 여기에는 현재까지 대형 전자 빛살 장치를 사용해야 하지만, 방전여기에 의한 발진이 실현되면 응용면에서 급속한 발전이 기대된다
1) XeCl 레이져
XeCl 레이저는 Xe과 염화수소를 포함한 헬륨이나 네온 가스 속에서 방전을 일으켜 Xe과 염소로 된 여기 2 원자 분자를 형성하고, 그 해리 에너지에 상당하는 파장 약 308 nm에서 발진하는 자외선의 펄스 레이저이다. 펄스 폭은 약 20 ns, 펄스 에너지는 200~400 mJ이다. XeCl 레이저로서, 반복율 400 Hz, 평균(average) 출력 60 W가 가능하다.엑시머레이저및가공기술
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설명
엑시머레이저의 가공기술, 종류, 응용방법 등 엑시머레이저에 대한 전반적인 내용을 기술한 리포트입니다.
· 불활성가스 엑시머 레이저
불활성가스 엑시머 레이저는 불활성가스만으로 레이저를 생성하는 것으로 Xe2 엑시머 레이저(발진파장 172 nm), Kr2 엑시머 레이저(146 nm) 및 Ar2 엑시머 레이저(126 nm)의 3종류가 있고, 진공 자외영역에서 고출력이 얻어지는 레이저로서 주목되고 있따 출력은, Xe2 엑시머 레이저에서 50 MW, Kr2 엑시머 레이저 및 Ar2 엑시머 레이저에서 십수 MW가 어느 것이나 펄스폭 약 10 ns로 얻어진다.
